半导体和电子行业对于技术和创新的持续发展至关重要，此类技术和创新正在改变我们的日常生活。智能手机、PC、游戏设备等是迄今为止开发的最精密、最复杂的技术。此类技术的核心是一枚微小的微芯片。尽管此类芯片非常小，但它们是当今最复杂的设备之一，其制造依赖于高度敏感的生产流程。
半导体制造是世界上发展日新月异的行业之一，新产品要求更快的速度和更高的规格。同时，这一过程又需要可靠和稳定的真空供应。业内的测试、放置、吸移夹持、包装操作需要清洁、一致的内部真空系统。因此，选择正确的真空泵解决方案对于生产流程至关重要。
半导体制造中的真空需求
内部真空系统用于任何“集成电路”制造流程的所有吸移夹持和处理操作，如处理、切割、成形和测试。由于半导体芯片包含多种组件，半导体制造对于制造精度的要求非常高，真空对于生产的每一步都至关重要。
真空度介于 100 和 400 mbar 绝对压力之间，以便确保各设备具有合适的真空度并且无回流污染。典型的半导体工厂流量应在 2000 至 8000 m3/h 之间，但规模较大的工厂所需的流量可能在 12000 m3/h 以上。工厂全天候运营，内部真空系统不能失效。因此，必须确保冗余和可靠性。
阿特拉斯·科普柯生产的用于半导体行业的节能真空泵
阿特拉斯·科普柯的 GHS VSD⁺ 变频油润滑螺杆真空泵是半导体行业的热门选择，因为 VSD+ 不仅仅是“变频驱动”。GHS VSD⁺配备了专有的逻辑控制器和软件，可在整个工厂保持一致的真空度。我们的智能真空泵是绿色创新产品，其能够显著降低能耗及对环境的影响，从而推动可持续发展。
阿特拉斯·科普柯还提供全系列 DZS VSD⁺ 爪型干式真空泵和 LRP VSD⁺ 智能变频液环真空泵。凭借耐用且成熟的设计，产品非常适合小型工厂运营，可直接替换现有的泵或追求较低采购成本而非总生命周期成本时安装。所有阿特拉斯·科普柯真空泵的容量范围和 VSD⁺ 技术表明其为中央真空系统的理想选择，包括半导体工厂中的内部真空系统。
从阿特拉斯·科普柯创新的油回收系统中获益
在厂务真空的管网中，空气分子沿真空泵方向流动，在设定的真空度下，气流密度仍然相当大。因此，油分子和水分无法迁移到流程中。真空泵通常远离生产车间，置于专门的设备间。因此，可以自由选择泵的类型，无需担心管网中的碳氢化合物污染。但是，应注意真空泵排气端的环境。
阿特拉斯·科普柯的 GHS VSD⁺ 变频油润滑螺杆真空泵系列等真空泵配备了出色的油回收系统。如有必要，可在泵排放侧安装额外的过滤系统，以确保大气环境和工厂周围的复杂半导体制造是世界上发展日新月异的行业之一，新产品要求更快的速度和更高的规格。同时，这一过程又需要可靠和稳定的真空供应。业内的测试、放置、吸移夹持、包装操作需要清洁、一致的内部真空系统。因此，选择正确的真空泵解决方案对于生产流程至关重要。空气循环/过滤系统不会受到污染。
提供稳定的真空度
由于真空度大幅波动，半导体工厂的内部真空系统一直存在问题。传统泵的性能由于磨损以及温度变化等环境条件原因会降低。
阿特拉斯·科普柯的 GHS VSD+ 油润滑螺杆设计在任何环境条件下均可保持稳定的性能。该流程始终可保持所需的速度。凭借阿特拉斯·科普柯的 VSD+ 技术，GHS VSD+ 可自动提高和降低速度，适应不断变化的真空需求，有效保持所需的设定点。
